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超净高纯试剂的现状应用及配套关键技术.doc,超净高纯试剂现实状况、应用、及配套技术1微电子技术发展微电子技术关键是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细制作一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,尤其是大规模及超大规模集成电路微细技术又是微电子技术关键,是电子信息...
1;超净高纯试剂的研制、开发和生产情况[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年2何禄宽;;超净高纯试剂的质量要求和检测要求[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年3郑学根;邱晓生;汪道明;;一种新型超净高纯试剂在半导体技术中的应用[A];安徽省第五届“兴皖之光...
超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。超净高纯试剂的主要应用领域包括半导体行业和太阳能行业，半导体行业用超净高纯试剂要求相对较高，目前我国高端产品主要靠进口，国内主要生产中低端产品。
微滤膜在超净高纯电子化学试剂生产中的应用进展施云海,(华东理工大学化学工程研究所,上海200237)大规模集成电路对超净高纯试剂的纯度和洁净度上具有特殊的要求,微滤膜分离由于对细菌和微细粒子具有良好的截留效应,与蒸馏、吸附等其它分离手段相结合,可使得纯水、双氧水和HF等电子清洗...
超净高纯硝酸纯化技术的研究进展,纯化水硝酸盐超标,纯化水硝酸盐检测,纯化水硝酸盐,纯化水硝酸盐不合格,高纯净钢基料,超净高纯试剂,安利净水器亚硝酸盐,硝酸是纯净物吗,纯化水
1975年，国际半导体设备与材料组织（SEMI）制定了国际统一的超净高纯试剂标准，如表1所示。.目前，国际上SEMI-C1到SEMI-C12级超净高纯试剂的技术都已经趋于成熟。.随着集成电路制作要求的提高，对工艺中所需的液体化学品纯度的要求也不断提高。.从技术...
1;超净高纯试剂的研制、开发和生产情况[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年2郑学根;邱晓生;汪道明;;一种新型超净高纯试剂在半导体技术中的应用[A];安徽省第五届“兴皖之光”青年学术年会论文集（工科卷）[C];2005年3穆启道;;ULSI配套用超净高纯试剂的研究[A];集成电路配套材料...
1何禄宽;;超净高纯试剂的质量要求和检测要求[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年2郑学根;邱晓生;汪道明;;一种新型超净高纯试剂在半导体技术中的应用[A];安徽省第五届“兴皖之光”青年学术年会论文集（工科卷）[C];2005年3穆启道;;ULSI配套用超净高纯试剂的研究[A];集成电路...
我国超净高纯化学试剂产业的基本状况.docx,我国超净高纯化学试剂产业的基本状况詹家荣1,2(1.上海化学试剂研究所,上海200333;2.上海华谊微电子材料有限公司,上海200940)摘要:主要综述了目前国内超净高纯化学试剂产业的发展现状,主要从...
【摘要】：大规模集成电路对超净高纯试剂的纯度和洁净度上具有特殊的要求,微滤膜分离由于对细菌和微细粒子具有良好的截留效应,与蒸馏、吸附等其它分离手段相结合,可使得纯水、双氧水和HF等电子清洗剂,金属离子等杂质含量降至几十个1×10-9以下,甚至达到1×10-12水平。
徐英伟.我国超净高纯试剂的应用与发展[J].微处理机,2010,(03):1-5.doi:10.3969/j.issn.1002-2279.2010.03.001.徐英伟.我国超净高纯试剂的应用与发展[J].微处理机.2010(03)...
简要介绍了国内外微电子技术中集成电路、分立器件和液晶显示器件等制作技术的现状及发展趋势,介绍了超净高纯试剂在微电子技术发展过程中的几种主要应用及关键品...
关键词:超净高纯试剂;现状;应用;;配套技术DOI:CNKI:SUN:HXSJ.0.2002-03-006年份:2002...通过文献互助平台发起求助,成功后即可免费获取论文全文。您可以选择微信扫...
我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展.pdf星级:5页我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展毕业论文星级:10页我国超净高纯试剂的应用与发展星级:5页...
超净高纯试剂的现状与.pdf,超净高纯试剂的现状与制各穆启道(北京科华微电子材料有限公司北京化学试剂研究所北京100022)摘要:本文根据我国微电子技术发...
太阳能电池生产对高纯化学品的需求按照600万美元/Gw计算,每年我们国家太阳能电池生产领域对高纯化学品需求在1200万美元,折合人民200万元左右。1.4超净高纯...
在平板显示器应用领域,2014年我国内资企业产的超净高纯试剂仅有G3.5代线及其以下用玻璃面板市场占有率为95%,而LCD面板G4.5、G5代线用超净高纯试剂市场的份额仅有50%,LCD面板...
高纯试剂和光刻胶的现状与发展曹立新(中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄050051)摘要:根据集成电路等制作技术不同发展阶段对超净高纯试剂和光刻...
3超净高纯试剂的应用3.1湿法清洗超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于在光刻过程中的蚀刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程...
超净高纯试剂基于微电子技术的发展而产生,随着微电子技术的发展而同步或超前发展,同时它又制约着微电子技术的发展。因此,超净高纯试剂的研究开发与应用必须与微...